粉末冶金模具分為公模和母模，其中公模需要拋光外表面，而母模需要拋光孔內(nèi)壁。現(xiàn)在這兩種都可以用設(shè)備來拋光，當然使用的設(shè)備是不一樣的。內(nèi)壁拋光使用的是斯曼克磨粒流設(shè)備，而公模外表面拋光，用的是斯曼克鏡面噴砂機。下面我們分別就這兩種拋光方式做個介紹。

首先，我們看公模，下圖為拋光前的公模，鏡面放電加工的，本身粗糙度已經(jīng)比較不錯。

然后我們用鏡面噴砂機來拋光，加工時間為2分鐘左右，使用的是特殊彈性磨料，對金屬表面進行滑擦研磨，可迅速去除模具表面氧化層，并去除細微紋路。鏡面噴砂機的能力范圍，一般是把0.4粗糙度的表面，拋光到0.2以下，較深紋路是去不掉的。

下圖為公模拋光后的效果，去除量是1-3微米。

然后我們再來看一下母模，母模的加工方式是慢走絲割一修四，拋光前的圖片如下：

這個是使用磨粒流來拋光，拋光時間是1分鐘，使用高分子鉆石軟磨料，以上下循環(huán)的方式來對內(nèi)壁進行擠壓研磨，去除量在3-5微米左右。磨粒流的拋光方式我們之前已經(jīng)講過很多了，這里就不展開了。

下圖為拋光后的模具內(nèi)壁狀態(tài)，鏡面效果非常顯著：

以上為粉末冶金模具鏡面拋光的過程介紹，可能大家也發(fā)現(xiàn)了，用設(shè)備來拋光模具，那么模具本身的加工方式一定要非常精細，一般都是慢走絲、鏡面放電。普通放電或是中絲達不到這個效果，因為不只是模具本身對精度和粗糙度要求較高，另一方面也是因為設(shè)備拋光是對拋光面整體去除的，很難做到像人工拋光那樣點對點。