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斯曼克流體拋光工藝案例-電子器件拋光完成后的對(duì)比

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編輯時(shí)間: 2021-10-15 16:20:56
斯曼克流體拋光工藝

眾所周知,電子器件對(duì)拋光精度要求是非常高的,至于電子器件拋光所能提升的性能,因?yàn)槲也皇请娮訉I(yè)人士,所以無法給出準(zhǔn)確答案。下圖所示的,是電子器件拋光完成后的對(duì)比。

 

磨粒流去毛刺設(shè)備

未拋光的電子器件邊緣呈暗黑色,有肉眼可見的粗糙顆粒。而拋光完成后的電子器件邊緣非常亮,幾乎呈鏡面效果,因?yàn)槠骷叽巛^小,所以鏡面不明顯。而完成以上工作的,并不是傳統(tǒng)人工打磨,而是磨粒流拋光設(shè)備。

通過下圖,我們可以簡(jiǎn)單地了解一下磨粒流拋光該電子器件的原理:

高分子彈性軟磨料經(jīng)過磨粒流設(shè)備擠壓,流經(jīng)電子器件待拋光面,進(jìn)行持續(xù)研磨,即可達(dá)到拋光效果,一款?yuàn)A具可以攜帶10-15個(gè)這種類型的器件,整個(gè)拋光耗時(shí)約2分鐘。具體拋光壓力,以及磨料所選取的目數(shù),您可以聯(lián)系我們,詳細(xì)咨詢!

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